PCH-18,Mt/1010<br> 5.15(1.31)<br> 3.12(1.58)<br> 1.03(1.59)<br> 0.13(0.60)<br> 11<br> <br>
PCH-18,Mt/1001<br> 5.26(1.34)<br> 3.09(1.56)<br> 1.10(1.70)<br> 0.21(0.94)<br> 8<br> <br>
P/C18-Mt 4.50(1.15)<br> 2.36(1.19)<br> 0.80(1.26)<br> 0.28(1.25)<br> 9<br> <br>
P/1010 3.92(1.00)<br> 1.99(1.01)<br> 0.60(0.92)<br> 0.15(0.68)<br> 13<br> <br>
P/1001 4.04(1.03)<br> 2.02(1.02)<br> 0.55(0.85)<br> 0.14(0.62)<br> 10<br> <br>
P 3.92<br> 1.98<br> 0.65<br> 0.22<br> 13<br> <p> <p> <p> <p>5尼龍6-粘土奈米複合材料<p>在1970年代,Kato發(fā)表一種由有機(jī)高分子與粘土無(wú)機(jī)物所組成之高分子-粘土複合物(complex)。它係在蒙脫土矽酸鹽層間插入丙烯酸單體,並進(jìn)行丙烯酸單體之聚合反應(yīng),造成蒙脫土基礎(chǔ)距離之增加,由9.6 增至17.4 。然而這種高分子-粘土複合物無(wú)法利用傳統(tǒng)成形方法加工。直到1976年,F(xiàn)ujiwara與Sakamolo兩人利用兩步驟方式製成尼龍6-粘土奈米複合材料。它們首先製得具較大基礎(chǔ)距離2 之氨基羧酸蒙脫土複合物,此複合物是蒙脫土層間之鈉離子與質(zhì)子化氨基羧酸,經(jīng)由離子交換成具擴(kuò)大基礎(chǔ)距離為2 之氨基羧酸-蒙脫土複合物。第二步驟,己內(nèi)醯胺單體插入此複合物之層間,並進(jìn)行聚合反應(yīng),因而得到一具大膨脹基礎(chǔ)距離69.8 之尼龍6-粘土奈米複合材料,此複合材料即可用傳統(tǒng)成形方式加工。<p> <p>5.1.原地聚合反應(yīng)方法(in-situ polymerization)<p>上面所述尼龍6-粘土奈米複合材料雖可經(jīng)由兩段來合成,但這種方法不符合工業(yè)經(jīng)濟(jì)量產(chǎn)之原則,原因是價(jià)格高。因之Sakamoto等人研究改良之道,最後以”原地聚合方法”解決這問題。此方法即從特殊層化矽酸鹽與己內(nèi)醯胺單體一步驟完成,而不必先製成氨基羧酸-粘土複合物。這種方法具工業(yè)上量產(chǎn)之價(jià)值,且已迅速發(fā)展成實(shí)際之應(yīng)用。<p>原地聚合方法包括下列之過程:<p>(a) 具有奈米尺寸添加物之形成(從層化矽酸鹽形成剝離之矽酸鹽層)<p>(b) 尼龍6基材之形成(己內(nèi)醯胺聚合反應(yīng))<p>(c) 複合材料之形成(尼龍6與矽酸鹽層之混成)<p>眾所周知,己內(nèi)醯胺水解聚合反應(yīng)成尼龍6,可區(qū)分為三個(gè)基本反應(yīng)式如圖8之概略說明。圖9為聚合反應(yīng)過程中,由反應(yīng)器內(nèi)取出之樣品,經(jīng)廣角X-光繞射(WAXD)所得之圖形。合成之雲(yún)母視為生料,在9.2°和7.1°(2θ)可看到其繞射峰,它可相對(duì)應(yīng)為9.6 與12.5 之基礎(chǔ)距離。此12 基礎(chǔ)距離可歸因於矽酸鹽層之水解。從反應(yīng)器所得之樣品,在20-24°(2θ)所得繞射峰被歸為尼龍6之結(jié)晶結(jié)構(gòu),4.3°(2θ)繞射峰相對(duì)應(yīng)為20.6 之基礎(chǔ)距離。4.3°(2θ)繞射峰包括合成雲(yún)母之生料並沒有看到,此峰之強(qiáng)度隨著聚合反應(yīng)進(jìn)行而逐漸下降,當(dāng)聚合反應(yīng)完成後即消失。<p> <p><br>圖8 己內(nèi)醯胺水解聚合反應(yīng)之概略說明<p> <p><br>圖9 奈米複合材料在聚合反應(yīng)時(shí),WAXD圖形之變化。樣品1、2、3取自反應(yīng)器,○dool=9.6 ,●dool=12 . ,▽dool=20.6 <br> <p>己內(nèi)醯胺聚合反應(yīng)結(jié)束後,奈米複合材料內(nèi)尼龍6基材之相對(duì)粘度為2.0~3.5(96﹪H2SO4,25℃) ,此值指出基材之分子量已夠高,可作為工程塑膠用。圖10為奈米複合材料薄切片之TEM影像,由圖中顯示矽酸鹽層已剝離且隨意的分散於尼龍6基材內(nèi)。估計(jì)矽酸鹽層厚約1nm,長(zhǎng)約30-100nm,這說明奈米複合材料已形成且聚合反應(yīng)在這時(shí)間內(nèi)亦完成。<p> <p><br>圖10 奈米複合材料TEM顯微影像<p> <p>表4說明一系列奈米複合材料所形成反應(yīng)之補(bǔ)充數(shù)據(jù),由這些數(shù)據(jù)可推測(cè)奈米複合材料原地聚合形成之過程:第一步驟己內(nèi)醯胺、水、和合成之雲(yún)母混合在一起,且保持在80℃。己內(nèi)醯胺插入合成雲(yún)母層內(nèi),雲(yún)母層之基礎(chǔ)距離膨脹至3 ,此時(shí)離子交換反應(yīng)尚未發(fā)生,因此鈉離子一直被陷在雲(yún)母層間內(nèi)。第二步驟,將混好之生料升溫至220℃,己內(nèi)醯胺水解為氨基己酸,部分被質(zhì)子化。一旦質(zhì)子化之氨基己酸產(chǎn)生,雲(yún)母層間之鈉離子經(jīng)由離子交換反應(yīng)而被取代。結(jié)果質(zhì)子化之氨基己酸介入合成雲(yún)母之層間,鈉離子被逐出到基材相內(nèi)。在這步驟離子交換反應(yīng)並不完全,殘留之己內(nèi)醯胺在反應(yīng)混合中插入層間,質(zhì)子化氨基己酸層間發(fā)生加成反應(yīng),而具有20.6 基礎(chǔ)距離之尼龍6寡聚合物-粘土複合物於焉形成。在這過程中,己內(nèi)醯胺之反應(yīng)度約為50﹪。在第三步驟,己內(nèi)醯胺之加成反應(yīng)約達(dá)90﹪,這亦是這類反應(yīng)之最大值。更多的己內(nèi)醯胺加入,其雲(yún)母基礎(chǔ)距離逐漸增加,且其晶格能下降,直至它不能忍受反應(yīng)系統(tǒng)所給予之剪切應(yīng)力,因此雲(yún)母層結(jié)構(gòu)最終被破壞。在WAXD圖形上再看不到雲(yún)母層間結(jié)構(gòu),此時(shí)矽酸鹽層完全分散,且離子交換反應(yīng)達(dá)到平衡。在雲(yún)母層間之鈉離子被離子交換過程所萃取出,並設(shè)想與尼龍高分子末端之羧酸群形成鹽。在第三或最後步驟,聚合度增加,奈米複合材料生成。這種合成奈米複合材料所需時(shí)間,與合成尼龍6傳統(tǒng)水解聚合反應(yīng)幾乎相同,此奈米複合材料以熱水純化並乾燥之即可做為進(jìn)一步加工之用。<p> <p>表4 奈米複合材料生成之詳細(xì)數(shù)據(jù)<p>Stage<br> Temperature<p>(℃)<br> d001<p>( )<br> Degree of ionexchange<p>(﹪)<br> Reaction degree ofε-Caprolactam<p>(﹪)<br> <br>Synthetic-mica -<br> 9.6<br> -<br> -<br> <br>1st<br> 80<br> 15.3<br> 0<br> 0<br> <br>2nd<br> 220<br> 20.6<br> 75<br> 50<br> <br>3rd<br> 260<br> No-detection<br> 95<br> 90<br> <br>Final<br> 260<br> No-detection<br> 95<br> 90<br> <p> <p>圖11概略說明奈米複合材料形成過程,原地聚合反應(yīng)法不僅成功地利用早期水與己內(nèi)醯胺存在下,進(jìn)行插層反應(yīng),同時(shí)亦利用到聚合反應(yīng)期間質(zhì)子化氨基己酸離子交換反應(yīng)。己內(nèi)醯胺與氨基己酸在加成反應(yīng)期間,所放出之熱有助於雲(yún)母層基礎(chǔ)距離之膨脹。<p> <p><br>圖11 奈米複合材料形成過程之概略說明<p> <p>5.2 尼龍6-黏土奈米複合材料之性質(zhì)<p>A. 奈米複合材料之結(jié)晶<p>圖12為奈米複合材料之WAXD曲線,純尼龍?jiān)?0°及24°(2θ)有繞射峰,兩者被歸為尼龍6之α型結(jié)晶結(jié)構(gòu),然而奈米複合材料在21°(2θ)卻另有一特殊繞射峰。它係由γ-型結(jié)晶結(jié)構(gòu)所造成,這種奈米複合材料其已質(zhì)子化氨基末端群與負(fù)電荷之矽酸鹽層形成離子鍵。圖13為奈米複合材料之DSC曲線,奈米複合材料有一主要的熔解峰在214℃,其為γ型結(jié)晶,另有一小峰在220℃為α型結(jié)晶,純尼龍6顯示唯一熔點(diǎn)在220℃為α型結(jié)晶。DSC在冷卻過程中試驗(yàn),奈米複合材料在更狹小溫度範(fàn)圍內(nèi)結(jié)晶,此現(xiàn)象說明奈米複合材料有較高之結(jié)晶速率。<p> <p><br>圖12 奈米複合材料和純尼龍6之WAXD圖形●α型結(jié)晶結(jié)構(gòu)○γ型結(jié)晶結(jié)構(gòu)<p> <p><br>圖13 奈米複合材料和純尼龍6之DSC曲線<p> <p>(B)流變性質(zhì)<p>圖14為含4wt﹪矽酸鹽層尼龍6-黏土奈米複合材料,與尼龍6之熔融黏度與剪切速率之關(guān)係。在低剪切速率(小於1),矽酸鹽層含量對(duì)熔融黏度影響甚大,但剪切速度超過100以後,矽酸鹽層含量對(duì)熔融黏度影響很小,這種流變特徵很適合於射出成形與擠出成形。<p> <p><br>圖14 剪切速率與熔融黏度之關(guān)係<p> <p>圖15為奈米複合材料矽酸鹽層之強(qiáng)化效應(yīng),並與傳統(tǒng)添加劑像雲(yún)母(滑石),玻纖比較。很明顯的,在低含量下,矽酸鹽層比傳統(tǒng)的添加劑有更好的強(qiáng)化效果,一般強(qiáng)化物之強(qiáng)化效應(yīng)有3個(gè)因素即勁度、表觀比及基材高分子之親合力。奈米尺寸之矽酸鹽層恰好滿足於這三個(gè)因素。<p> <p><br>圖15 矽酸鹽層對(duì)尼龍6奈米複合材料之強(qiáng)化效應(yīng)並與其他強(qiáng)化劑比較<p> <p>(C)奈米複合材料之典型性質(zhì)<p>(1)撓曲模數(shù)<p>表5為奈米複合材料之一些性質(zhì),矽酸鹽層含量與撓曲模數(shù)之關(guān)係已在圖8有所表示,矽酸鹽層比滑石有較大之表觀比。與玻纖比較,矽酸鹽層有幾乎相同之表觀比,而其勁度更佳,因此矽酸鹽層可視為最佳之無(wú)機(jī)添加劑。<p> <p>表5 尼龍6-雲(yún)母奈米複合材料之典型性質(zhì)<p>
roperties<br> Nanocomposite<br> Conventional Reinforced Nylon6<br> Neat Nylon6<br> <br>Filler type<br> Silicate sheet<br> Talc<br> -<br> <br>Filler Content(wt﹪)<br> 4 6<br> 4 35<br> -<br> <br>Specific gravity<br> 1.15 1.17<br> 1.15 1.42<br> 1.14<br> <br>Mechanical properties<br> <br> <br> <br> <br>Elongation (﹪)<br> 4 4<br> 4 4<br> 100<br> <br>Flexural strength(M Pa)<br> 158 176<br> 125 137<br> 108<br> <br>Flexural Modulus(G Pa)<br> 4.5 5.6<br> 3.0 6.0<br> 3.0<br> <br>DTUL(at 1.8 M Pa).(℃)<br> 152 158<br> 70 172<br> 70<br> <p> <p>(2)阻斷性<p>奈米複合材料對(duì)氧、氮、二氧化碳、水氣和汽油等有相當(dāng)優(yōu)異之阻斷性質(zhì),對(duì)氧和水之阻氣性如圖16。奈米複合材料之氣體滲透性減至無(wú)添加物高分子之一半到三分之一,此效應(yīng)被解釋為氣體在奈米複合材料彎曲行徑之故。矽酸鹽層之分散平面,阻斷氣體分子之最短路徑,而迫使氣體採(cǎi)取迴轉(zhuǎn)路徑,因而迫使氣體之滲透路徑延長(zhǎng)。<p> <p><br>圖16 奈米複合材料薄膜之氣體滲透性(150μm厚)<p> <p>(C)回收性質(zhì)<p>奈米複合材料被回收時(shí)尚能保有相當(dāng)優(yōu)異之性質(zhì),早期使用在傳統(tǒng)高分子複合材料之玻纖或碳纖,在射出成型或押碎過程中常易折斷,以至於再回收使用時(shí),因表觀比減少而損傷複材之機(jī)械性質(zhì)。然而以矽酸鹽層強(qiáng)化之奈米複合材料,因其顆粒(奈米級(jí))超細(xì),在回收過程中沒有折斷之現(xiàn)象,故奈米複合材料在重複數(shù)次壓碎與熔融仍不損及其功能。<p>| 歡迎光臨 FRP玻璃鋼復(fù)合材料論壇 (http://www.ywbdwj.cn/) | Powered by Discuz! X3.5 |