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發(fā)布時(shí)間: 2021-4-23 10:55
正文摘要:不同工藝制備的氟化鎂材料對(duì)真空鍍膜的影響MgF2是應(yīng)用最早的、最常用的、性能優(yōu)良的光學(xué)鍍膜材料。然而,由于其制備工藝過程不同所造成的材料內(nèi)部組織結(jié)構(gòu)上的差異,最終對(duì)真空鍍膜工藝和薄膜光學(xué)性能(如折射率)會(huì)產(chǎn) ... |
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