二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜應(yīng)用領(lǐng)域及特性

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二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜應(yīng)用領(lǐng)域及特性

SiO2薄膜具有良好的硬度、光學、介電性質(zhì)及耐磨、抗蝕、機械等特性，在光學、微電子等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景

SiO2薄膜已經(jīng)是一種普通應(yīng)用于各個領(lǐng)域的重要膜層（增透膜、多層膜、保護膜、濾光片…等）。在光學薄膜濾光片中，SiO2 薄膜是很好的一種單層抗反射膜，更是最常用的一種低折射率膜層，用來鍍制多層光學薄膜濾光片；在鍍膜工藝中，作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護層；在半導體技術(shù)方面，常用來當作絕緣層的一種材料。

SiO2薄膜其穿透區(qū)涵蓋0.15μm 至 8μm，具有很小的吸收損耗；和多數(shù)不同材料的基板擁有良好的附著性，表面也具有良好的耐刮性；結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，不易與其他材料發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生變質(zhì)，具有耐酸性、抗腐蝕的優(yōu)點。

愛特斯光學2004年建立了硅氧化物的生產(chǎn)線，包括二氧化硅。從小顆粒狀、柱狀二氧化硅，到大切片二氧化硅，種類齊全，最新的規(guī)格包括二氧化硅環(huán)?？蛻艨砂刺峁┚唧w尺寸、大小定制二氧化硅。